문서의 임의 삭제는 제재 대상으로, 문서를 삭제하려면 삭제 토론을 진행해야 합니다. 문서 보기문서 삭제토론 페이데이 2/스킬/고스트 (문단 편집) === 티어 2 === |||| [[파일:Parkour.webp]] '''[[파쿠르|파쿠르 (Parkour)]]''' |||| || 베이직 ||당신의 이동속도가 {{{#0099FF 10%}}}만큼 추가로 상승하고 사다리를 오르는 속도가 {{{#0099FF 20%}}}만큼 상승합니다. || || 에이스 ||모든 방향으로 뛰어다닐 수 있습니다. 달리면서 장전하세요 - 당신은 달리면서 무기를 재장전할 수 있습니다. || 베이직의 경우 이동속도 10%, 그리고 사다리를 타는 속도를 15% 증가시켜주는데, 상술된 '엄폐의 중요성' 스킬의 짚라인처럼 사다리 또한 탈 일이 잘 없으며 사다리의 경우에는 짚라인과 달리 여러가지 편법[* 올라갈 때는 점프 키를 마구 연타하면 --시야가 미친듯이 경련하며-- 더 빠르게 올라가며, 내려갈 때는 적당히 자유낙하 하다가 사다리에 붙으면 큰 피해 없이 빠르게 내려갈 수 있다.]이 존재하기 때문에 사다리 이동 속도 15%는 역시 그닥 좋다고는 할 수 없는 효과다. 하지만 이동 속도 10% 증가의 경우 이야기가 다른데, 이 10%가 어떤 자세를 취하던, 어떤 상황에 처했던 간에 추가되는 수치이기 때문에 섰을 때, 앉았을 때, 심지어 퓨지티브의 '스완송' 발동 도중이라도 10%의 이동 속도 버프를 받게 된다. 이 버프를 받는 순간 양복의 이동 속도는 말할 것도 없고, 방탄복을 덕지덕지 껴입었어도 어느 정도의 속도가 보장되기 때문에 빠른 엄폐와 이동을 통한 쾌적한 플레이를 할 수 있게 된다. 에이스의 경우에는 개편 전 마스터마인드 4티어 스킬 '킬머'와 개편 전 고스트 6티어 스킬 '무빙 타겟'의 에이스 효과들을 통째로 들고 왔는데, 개편 이전에도 "기동성은 확실히 확보되지만 스킬 포인트 낭비가 심해서 아쉽다"는 평을 받은 스킬들을 그냥 확 합해버린 것이기 때문에 한번 찍어둔 후 작정하고 뛰어다니면 경찰들 엿 맥이는 건 일도 아니다! 그도 그런 것이 고기동 타입의 플레이를 제약하는 사유들 중 몇 개가 '엄폐한 채 방탄복 재생을 기다린다', '무기의 재장전을 기다린다'인데, 경찰들 한복판을 신나게 뛰어다니다가 방탄복이 다 까져서 재장전 할 겨를도 없이 급히 코너를 돌았는데 거기 경찰이 서 있었다면? 경찰들의 기본 체력이 낮은 저난이도에서는 근접 무기로 대응할 수도 있겠지만 고난이도에서는 낑낑거리며 재장전하거나 근접 무기로 몇번 치는 사이 벌집이 되어 주저앉을 수 밖에 없다. 하지만 이 스킬을 찍어두면 급히 엄폐해야 할 상황에서도 들고 있는 총을 재장전해둘 수 있게 되며, 상술된 엄폐의 중요성 에이스 효과와 함께하면 재장전을 하면서도 10%의 회피율을 받게 되어 생존할 확률이 더욱 높아지게 된다. 거기에 이런 급박한 용도가 아니더라도 달리던 말던 언제나 재장전을 할 수 있다는 점은 전투의 흐름을 끊지 않아 전선을 유지하거나 미션 목표를 수행하는데 큰 도움이 된다. 다만, 장전이 끝나고 달리기를 통해 장전 모션을 생략(노리쇠를 전진시킨다던가, 탄창을 한번 크게 쳐준다던가 하는 동작)할 수 없게 된다는 점은 골칫거리로 작용하기도 하는데 달리기를 통한 장전 모션 생략에 적응된 사람은 이 스킬을 찍고 총기를 장전하다가 달렸음에도 장전 모션이 끝나지 않아 당황하는 경우가 많다. 이는 근접 무기를 휘둘러 장전 모션을 생략하는 다른 방법을 쓰거나 바로바로 무기를 바꾸는 등의 다른 전략을 세우는 것 밖에 답이 없다. |||| [[파일:Inner_Pockets.webp]] {{{#white '''속주머니 (Inner Pockets)'''}}} |||| || 베이직 ||당신의 근접 무기의 은폐도가 {{{#0099FF 2}}}만큼 상승합니다. || || 에이스 ||모든 방탄조끼류의 은폐도가 {{{#0099FF 4}}}만큼 상승합니다. || 다른 스킬들이 전투 상황을 지원하는 등 직접적인 효과를 보인다면, 이 스킬의 효과는 단순히 은폐도을 높이는 것이다. 스텔스시에도 이 스킬이 꼭 필요한 경우가 있는데 바로 톱을 들고 스텔스를 할 때이다. 톱은 기본 은폐도 수치가 낮아 솔로 스텔스시 톱을 들고 플레이 하기 부담스러울 수 있으나, 해당 스킬을 찍음으로서 근접무기의 은폐도를 최대 32까지 올릴 수 있어 플레이어의 최종 은폐도에 끼치는 영향이 꽤 큰편이다. 은폐도가 영향을 끼치는 라우드 스킬이 고스트 스킬 내 두 개가 있는데, 하나는 회피 예술가의 최종 트리 비열한 자식이며 다른 하나는 조용한 킬러 트리의 로 블로다. 이들의 효과를 100% 보려면 발각 위험도를 최소 25, 최대 5까지는 내려줘야하는데 이렇게 되면 고화력 무기를 운용하기 훨씬 까다로워지며 굳이 고화력 무기를 운용하지 않아도 만족스러울 정도의 개조는 포기해야 하는 상황이 생긴다. 이렇게 은폐도 1이 중요한 상황에서 은폐도 보너스 2, 방탄복 사용시 추가로 4를 올려주기에 상당한 도움이 된다. 이 스킬을 찍어 줄어든 발각도 패널티로 방탄조끼를 입어 아머를 챙기거나, 은폐도 때문에 눈을 꼭 감고 포기했던 명중률, 안정성, 대미지 개조를 하는 등의 다양한 활용이 가능하므로, 은폐도를 중시하면서도 좀 널널하게 플레이 하고 싶다면 찍어두도록 하자.저장 버튼을 클릭하면 당신이 기여한 내용을 CC-BY-NC-SA 2.0 KR으로 배포하고,기여한 문서에 대한 하이퍼링크나 URL을 이용하여 저작자 표시를 하는 것으로 충분하다는 데 동의하는 것입니다.이 동의는 철회할 수 없습니다.캡챠저장미리보기